Published July 2005 | Version v1
Journal article

Effect of temperature on trap charge in (Ba, Sr)TiO3 films on silicon

  • 1. Rostovskij Gosudarstvennyj Pedagogicheskij Univ., Rostov-na-Donu (Russian Federation)

Description

Paper presents the results of investigation into the effect of temperature on the memory effect in the metal-ferroelectric film-silicon structures caused by a trap charge in the film. The relaxation rate was found to increase with temperature increase late in the relaxation of the trap charge. One discusses possibility to apply a two-layer model to explain the obtained results

Abstract (Russian)

Приведены результаты исследования влияния температуры на эффект памяти в структурах металл-сегнетоэлектрическая пленка-кремний, обусловленный ловушечным зарядом в пленке. Обнаружено, что на поздних этапах процесса релаксации ловушечного заряда скорость релаксации увеличивалась с ростом температуры. Обсуждена возможность использования двухслойной модели для объяснения полученных результатов

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Влияние температуры на ловушечный заряд в пленках (Ба, Ср)TiO

Publishing Information

Journal Title
Izvestiya Akademii Nauk. Rossijskaya Akademiya Nauk. Seriya Fizicheskaya
Journal Volume
69
Journal Issue
7
Journal Page Range
p. 968-970
ISSN
1026-3489
CODEN
IRAFEO

Conference

Title
OMA-2004 and ODPO-2004
Original Conference Title
7. Mezhdistsiplinarnyj mezhdunarodnyj simpozium: Fazovye prevrashcheniya v tverdykh rastvorakh i splavakh (OMA-2002) i 7. Mezhdistsiplinarnyj mezhdunarodnyj simpozium: Poryadok, besporyadok i svojstva oksidov (ODPO-2002)
Dates
Sep 2004
Place
Rostov-na-Donu (Russian Federation)

Optional Information

Notes
4 refs., 2 figs.