Published August 2006 | Version v1
Journal article

Nitriding of titanium in glow discharge with hollow cathode

  • 1. Inst. Sil'notochnoj Ehlektroniki SO RAN, Tomsk (Russian Federation)

Description

Results of study of low pressure (2-4 Pa) and low temperature (<500 deg C) nitriding process of commercial titanium (Ti > 98.28%) by plasma of glow discharge with hollow cathode are presented. It is shown, that diffusion saturation of titanium with nitrogen occurs at high (2-4 mA/cm2) density of ion current. The atomic nitrogen is playing a major role in saturation process. During the process (4.5 hours) the microhardness of nitriding surface increases up to ∼14 GPa while initial microhardness of the surface is 3 GPa

Abstract (Russian)

Представлены результаты исследования процесса азотирования технически чистого титана марки ВТ1-0 при низком давлении (2-4 Па) и температуре <500 град С в плазме тлеющего разряда с полым катодом. Показано, что диффузионное насыщение титана азотом происходит при высоких (2-4 мА/см2) плотностях ионного тока, определяющую роль в процессе насыщения играет атомарный азот. В результате азотирования в течение 4.5 ч микротвердость поверхности увеличилась до ∼14 ГПа, а на глубине 5-10 мкм - до 6-7 ГПа при исходном значении микротвердости на поверхности 3 ГПа

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Азотирование титана в тлеющем разряде с полым катодом

Publishing Information

Journal Title
Poverkhnost'. Rentgenovskie, Sinkhrotronnye i Nejtronnye Issledovaniya
Journal Issue
no.8
Journal Page Range
p. 63-69
ISSN
1028-0960

Optional Information

Notes
13 refs., 5 figs., 3 tabs.