Published February 2004 | Version v1
Journal article

Effects of thermal annealing and pulsed photon processing on the relaxation and crystallization of amorphous Fe-P-Si alloys

  • 1. Inst. Metallurgii i Materialovedeniya im. A.A. Bajkova Rossijskoj Akademii Nauk, Moscow (Russian Federation)
  • 2. Voronezhskij Gosudarstvennyj Tekhnicheskij Univ., Voronezh (Russian Federation)

Description

One studied effect of preliminary relaxation under thermal (annealing under temperature below crystallization temperature, Tanneal < Tcryst) and pulse photon treatment (with Erad=1-18 J/cm2 energy) on subsequent crystallization of amorphous alloys of Fe-P-Si system. One detected increase of dispersity of structure and hardness of the investigated alloys upon high-temperature (Tanneal < Tcryst) annealing and pulse photon treatment

Abstract (Russian)

Исследовано влияние предварительной релаксации под действием термической (отжиг при температуре ниже температуры кристаллизации, Тoтж < Ткр) и импульсной фотонной обработки (с энергией Еизл=1-18 Дж/см2) на последующую кристаллизацию аморфных сплавов системы Fe-P-Si. Обнаружено повышение дисперсности структуры и твердости исследованных сплавов после высокотемпературного отжига Тотж < Ткр) и импульсной фотонной обработки

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Влияние нагрева и импульсной фотонной обработки на релаксационные процессы и кристаллизацию аморфных сплавов в системе Фе-П-Си

Publishing Information

Journal Title
Neorganicheskie Materialy
Journal Volume
40
Journal Issue
2
Journal Page Range
p. 196-204
ISSN
0002-337X
CODEN
NEOMB8

Optional Information

Notes
6 refs., 10 figs., 2 tabs.