Published February 2005 | Version v1
Journal article

Investigation of short-period multilayer diffraction gratings by means of a laboratory X-ray source

  • 1. Inst. Problem Tekhnologii Mikroehlektroniki i Osobochistykh Materialov RAN, Chernogolovka (Russian Federation)
  • 2. Inst. Optiko-Nejronnykh Tekhnologij, Moscow (Russian Federation)

Description

The W-Si multilayer diffraction grating with the period of 2 μm was designed. Properties of multilayer diffraction grating were investigated using the high resolution X-ray diffraction and X-ray standing wave methods at energy of 17.479 keV (MoKα-radiation)

Abstract (Russian)

Созданы глубокие многослойные дифракционные решетки с периодом 2 мкм на основе многослойных W-Si-зеркал с использованием современных методов микротехнологии. Рентгенооптические свойства многослойных дифракционных решеток исследованы методом высокоразрешающей рентгеновской дифрактометрии и методом стоячих рентгеновских волн при энергии 17.479 кэВ (MoKα-излучения)

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Исследование многослойных короткопериодных дифракционных решеток на лабораторном источнике рентгеновского излучения

Publishing Information

Journal Title
Poverkhnost'. Rentgenovskie, Sinkhrotronnye i Nejtronnye Issledovaniya
Journal Issue
no.2
Journal Page Range
p. 79-83
ISSN
1028-0960

Optional Information

Notes
10 refs., 8 figs.