Published February 2003 | Version v1
Journal article

Some peculiarities of influence of phosphorus ion doping on photoluminescence of SiO2:Si layers

  • 1. Nauchno-Issledovatel'skij Fiziko-Tekhnicheskij Inst. Nizhegorodskogo Gosudarstvennogo Univ. im. N.I. Lobachevskogo, Nizhnij Novgorod (Russian Federation)

Description

The effect of the phosphorus ion doping on the photoluminescence of the SiO2 with the silicon quantum dots is studied. It is shown, that the photoluminescence intensity of the phosphorus-doped samples nonmonotonously depends on the temperature of the consecutive annealing and it may be higher or lower one as compared to the photoluminescence intensity of unalloyed samples. It is theoretically shown, that the quantum-mechanical effect, related to the Coulomb interaction in the nanocrystals, is one of the factors, contributing to the increase by the phosphorus doping

Abstract (Russian)

Исследовано влияние ионного легирования фосфором на фотолюминесценцию слоев SiO2 с квантовыми точками кремния. Показано, что интенсивность фотолюминесценции легированных фосфором образцов немонотонно зависит от температуры последовательного отжига и может быть как больше, так и меньше, чем интенсивность фотолюминесценции нелегированных образцов. Теоретически показано, что один из факторов, способствующих усилению фотолюминесценции при легировании фосфором, - это квантово-механический эффект, связанный с кулоновским взаимодействием в нанокристаллах

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Некоторые особенности влияния ионного легирования фосфором на фотолюминесценцию слоев SiO

Publishing Information

Journal Title
Izvestiya Akademii Nauk. Rossijskaya Akademiya Nauk. Seriya Fizicheskaya
Journal Volume
67
Journal Issue
2
Journal Page Range
p. 184-186
ISSN
1026-3489
CODEN
IRAFEO

Conference

Title
The workshop Nanophotonics
Original Conference Title
Soveshchanie Nanofotonika
Dates
Mar 2002
Place
Nizhnij Novgorod (Russian Federation)

Optional Information

Notes
9 refs., 1 fig.