Published May 1978 | Version v1
Journal article Metadata-only

Investigation of oxide growth in nickel thin films

Creators

  • 1. Regensburg Univ. (Germany, F.R.). Inst. fuer Physik 3 - Angewandte Physik

Description

The oxide growth in nickel thin films was studied by means of AUGER electron spectroscopy and ion beam etching in the oxide thickness range 0 - 50 nm. The depth profiles of the oxygen concentration and the changes in concentration due to the oxidation were determined. The evaporation of the film, the preparation of oxide layer and the measurement of the composition profiles were carried out as consecutive steps within the same ultra high vacuum system without interrupting the vacuum. The shape of the depth profiles depends on the duration of the oxidation period and on the oxidation temperature. In the temperature range T = (550 +- 10) K the averaged oxide thickness can be described by a parabolic rate law. (orig.)

Abstract (German)

Mit AUGER-Elektronenspektroskopie und Ionenstrahlaetzen wurde das Oxydwachstum in duennen Nickelschichten im Oxyddickenbereich 0 - 50 nm untersucht. Hierzu wurden die Tiefenprofile der Sauerstoffkonzentration und deren Aenderung bei der Oxidation bestimmt. Durch geeignete Reihenfolge der Praeparations- und Messvorgaenge war es moeglich, die Schichten im UHV aufzudampfen, unter definierten Bedingungen zu oxydieren und waehrend verschiedener Stadien des Oxydationsvorganges zu analysieren, ohne das Vakuumsystem zu oeffnen. Die Form der dabei erhaltenen Tiefenprofile ist abhaengig von der Oxydationsdauer und der Oxydationstemperatur. Die mittlere Oxyddicke kann fuer T = (550 +- 10) K durch ein parabolisches Ratengesetz beschrieben werden. (orig.)

Additional details

Additional titles

Original title (German)
Untersuchung des Oxydwachstums in duennen Nickelschichten

Publishing Information

Journal Title
Vak.-Tech.
Journal Volume
27
Journal Issue
4
Series
Vak.-Tech.
Journal Page Range
102-105

INIS

Country of Publication
Germany
Country of Input or Organization
Germany
INIS RN
9412882
Subject category
S75: CONDENSED MATTER PHYSICS, SUPERCONDUCTIVITY AND SUPERFLUIDITY;
Descriptors DEI
AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; DEPTH; ETCHING; FILMS; HIGH TEMPERATURE; ION BEAMS; NICKEL; OXIDATION
Descriptors DEC
BEAMS; CHEMICAL REACTIONS; DIMENSIONS; ELECTRON SPECTROSCOPY; ELEMENTS; METALS; SPECTROSCOPY; SURFACE FINISHING; TRANSITION ELEMENTS