Published February 6, 1975 | Version v1
Patent Open

Radiosensitive material

Description

As radiosensitive materials for electron-beam recording, macromolecular organic substances are used which, after irradiation, increase their solubility towards certain solvents (e.g. by depolymerization) or decrease their solubility (e.g. by lattice-like polymerization). In the latter case, the irradiated spots of a film remain on the carrying agent while the unchanged components can be eliminated with a solvent. For the manufacture of such thin films (0,1-1 μm), the invention proposes a material which consists of a linear polymer on acrylate or methacrylate basis with side elements containing 3 to 20 atoms and the side elements of which have end-standing polymerizable double bonds. Components from which such materials can be manufactured are stated. (UWI)

Availability note (English)

MF available from INIS under the Report Number.

Abstract (German)

Als strahlungsempfindliche Materialien fuer Elektronenstrahlaufzeichnung sind makromolekulare organische Stoffe eingesetzt, die nach Bestrahlung ihre Loeslichkeit gegenueber bestimmten Loesungsmitteln erhoehen (z.B. durch Depolymerisation) oder erniedrigen (z.B. durch Vernetzung). Im letzteren Falle bleiben die belichteten Stellen einer Schicht auf dem Traeger stehen, waehrend die unveraenderten Teile mit einem Loesungsmittel herausgeloest werden koennen. Die Erfindung schlaegt zur Herstellung derartiger duenner Schichten (0,1-1 μm) ein Material vor, das aus einem linearen Polymer auf Acrylat- oder Methacrylat-Basis mit 3 bis 20 Atomen enthaltenden Seitenketten besteht und dessen Seitenketten endstaendige polymerisierbare Doppelbindungen aufweisen. Komponenten, aus denen sich derartige Materialien herstellen lassen, werden angegeben. (UWI)

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Original title (German)
Strahlungsempfindliches Material

Publishing Information

Imprint Pagination
11 p.
IPC:
Int. Cl. C08F 8-00.
IPC
Int. Cl. C08F 8-00.
Patent number
DE patent document 2336517/A/