Temperature effect of irradiated target surface on distribution of nanoparticles formed by implantation
- 1. Belorusskij Gosudarstvennyj Univ., Minsk (Belarus)
- 2. Univ. Chalmersa, Geteborg (Sweden)
- 3. Univ. Susseksa, Brajton (United Kingdom)
- 4. Kazanskij Fiziko-Tekhnicheskij Inst. RAN, Kazan' (Russian Federation)
- 5. Tekhnicheskij Univ. Aakhena, Inst. Fiziki 1, Aakhen (Germany)
Description
The composition layers, containing the metal nanoparticles, synthesized thorough implantation of the Ag+ ions with the energy of 60 keV and the dose of 3 x 1016 ion/cm2 into the sodium-calcium silicate glass by the ion current of 3 μA/cm2 and the sublayer temperature of 35 deg C are studied. The obtained implantation results are analyzed in dependence on the temperature effects, developing for the glass samples of various thickness. The data on the silver distribution, the metal nanoparticles formation and growth by depth are obtained from the optical reflection spectra. It is demonstrated that minor changes in the surface temperature of the irradiated glass sublayer lead to noticeable diversities in the regularities of the nanoparticles formation in the sample volume
Abstract (Russian)
Исследуются композиционные слои, содержащие металлические наночастицы, синтезированные имплантацией ионов Ag+ с энергией 60 кэВ, дозой 3 х 1016 ион/см2 в натриево-кальциевое силикатное стекло при ионном токе 3 мкА/см2 и температуре подложки 35 град С. Анализируются результаты имплантации в зависимости от температурных эффектов, проявляющихся для образцов стекла различной толщины. Данные по распределению серебра, зарождению и росту металлических наночастиц по глубине образцов стекла были получены из спектров оптического отражения. Продемонстрировано, что небольшие изменения в температуре поверхности облучаемой стеклянной подложки приводят к заметным различиям в закономерностях формирования наночастиц в объеме образцаAdditional details
Additional titles
- Original title (Russian)
- Влияние температуры поверхности облучаенмой мишени на распределение наночастиц, сформированных имплантацией
Publishing Information
- Journal Title
- Pis'ma v Zhurnal Tekhnicheskoj Fiziki
- Journal Volume
- 27
- Journal Issue
- 13
- Journal Page Range
- p. 57-63
- ISSN
- 0320-0116
- CODEN
- PZTFDD
INIS
- Country of Publication
- Russian Federation
- Country of Input or Organization
- Russian Federation
- INIS RN
- 34046169
- Subject category
- S75: CONDENSED MATTER PHYSICS, SUPERCONDUCTIVITY AND SUPERFLUIDITY;
- Descriptors DEI
- GLASS; ION IMPLANTATION; KEV RANGE 10-100; MICROSTRUCTURE; RADIATION DOSES; SILICON OXIDES; SILVER IONS; SPATIAL DISTRIBUTION; TEMPERATURE DEPENDENCE; TEMPERATURE RANGE 0273-0400 K; THICKNESS
- Descriptors DEC
- CHALCOGENIDES; CHARGED PARTICLES; DIMENSIONS; DISTRIBUTION; DOSES; ENERGY RANGE; IONS; KEV RANGE; OXIDES; OXYGEN COMPOUNDS; SILICON COMPOUNDS; TEMPERATURE RANGE
Optional Information
- Notes
- 12 refs., 1 fig.