Published September 2004 | Version v1
Journal article

Annealing effect on the cathodoluminescence of ZnO:Ga epitaxial layers implanted with N

  • 1. RAN, Inst. Problem Tekhnologii Mikroehlektroniki, Chernogolovka (Russian Federation)
  • 2. MGU im. M.V. Lomonosova, Fizicheskij Fakul'tet, Moscow (Russian Federation)
  • 3. MGU im. M.V. Lomonosova, Khimicheskij Fakul'tet, Moscow (Russian Federation)

Description

The studies on the annealing effect on the ZnO:Ga- + N+/Al2O3 films cathodoluminescence are carried out. It is shown, that the annealing leads to the increase in the edge line and to origination of the donor-acceptor recombination with the maximum at 400 nm, indicating the donor-acceptor centers formation

Abstract (Russian)

Проведены исследования влияния отжига на катодолюминесценцию пленок ZnO:Ga- + N+/Al2O3. Показано, что отжиг приводит к увеличению интенсивности краевой линии и появлению полосы донорно-акцепторной рекомбинации с максимумом при 400 нм, свидетельствующей об образовании донорно-акцепторных центров

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Влияние отжига на катодолуминесценцию эпитаксиальных слоев ZnO:Га, имплантированных азотом

Publishing Information

Journal Title
Izvestiya Akademii Nauk. Rossijskaya Akademiya Nauk. Seriya Fizicheskaya
Journal Volume
68
Journal Issue
9
Journal Page Range
p. 1374-1376
ISSN
1026-3489
CODEN
IRAFEO

Conference

Title
SEM-2003 Symposium
Original Conference Title
XIII Rossijskij simpozium po rastrovoj ehlektronnoj microskopii i analiticheskim metodam issledovaniya tverdykh tel
Dates
May 2003
Place
Chernogolovka (Russian Federation)

Optional Information

Notes
6 refs.; 5 figs.