Published July 2004 | Version v1
Journal article

Radiative recombination in Ge+ ion-implanted SiO2 films annealed under hydrostatic pressure

  • 1. Inst. Fiziki Poluprovodnikov Sibirskogo Otdeleniya Rossijskoj Akademii Nauk, Novosibirsk (Russian Federation)
  • 2. Nanoparc GmbH, Dresden-Rossendorf (Germany)

Description

Photoluminescence and photoluminescence excitation spectra from the Ge+ ion implanted SiO2 films annealed under conditions of hydrostatic pressure at Ta=450-1100 Deg C and P=12 kbar were studied at room temperature. It was obtained that the appearance of the specific features in the emission spectra of the violet and green photoluminescence bands correlated with the formation of homogeneously stressed Ge nanocrystals. High-energy shift in photoluminescence band position observed at Ta≥800 Deg C was explained by the modification of the energy level of respective radiative-recombination centers under increasing stresses

Abstract (Russian)

Исследованы спектры фотолюминесценции и спектры возбуждения фотолюминесценции при комнатной температуре в пленках SiO2, имплантированных ионами Ge+ и отожженных в условиях гидростатического сжатия при температуре Ta=450-1100 град C и давлении P=12 кбар. Установлено, что появление особенностей в спектрах эмиссии и спектрах возбуждения фиолетовой и зеленой полос фотолюминесценции коррелирует с формированием однородно напряженных нанокристаллов Ge. Высокоэнергетический сдвиг полос фотолюминесценции с ростом Ta≥800 град С объясняется смещением энергетических уровней формирующихся центров излучательной рекомбинации за счет возрастающих деформационных потенциалов

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Излучательная рекомбинация в пленках SiO

Publishing Information

Journal Title
Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov
Journal Volume
38
Journal Issue
7
Journal Page Range
p. 852-857
ISSN
0015-3222
CODEN
FTPPA4

Optional Information

Notes
18 refs., 5 figs.