Published February 2000 | Version v1
Journal article

Contribution of the electron subsystem of a crystals into reactions between multicharged centers in semiconductors

  • 1. Inst. Fiziki Poluprovodnikov Sibirskogo Otdeleniya Rossijskoj Akademii Nauk, Novosibirsk (Russian Federation)

Description

The defect complex formation reactions in semiconductors has been considered. The contribution of the electron subsystem of crystals into the reaction rate was regarded as an addition of the change in the electron subsystem energy to the reaction energy barrier. The comparison of the results calculated against the experimental data is carried out in the case of the accumulation of the radiation-induced A- and E-centers in silicon. Satisfactory agreement between theoretical and experimental results gives the evidence in favour of the suggested mechanism that the crystal electron subsystem exerts influence over processes in the atomic subsystem

Abstract (Russian)

Рассмотрены реакции образования комплексов дефектов в полупроводниках. Вклад электронной подсистемы в скорость реакции учитывается путем добавления изменения энергии электронной подсистемы к энергетическому барьеру реакции. На примере реакций радиационного образования А- и Е-центров в кремнии проводится сравнение результатов расчета с экспериментальными данными по накоплению этих дефектов при облучении. Удовлетворительное согласие расчетных данных с экспериментальными свидетельствует в пользу предложенного механизма участия электронной подсистемы кристалла в процессах в атомной подсистеме

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Участие электронной подсистемы кристалла в реакциях между многозарядными центрами в полупроводниках

Publishing Information

Journal Title
Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov
Journal Volume
34
Journal Issue
2
Journal Page Range
p. 172-176
ISSN
0015-3222
CODEN
FTPPA4

Optional Information

Notes
9 refs., 1 fig.