Published March 12, 2002
| Version v1
Journal article
Specific features of sputtered atoms transport during Ta2O5 film deposition on substrates of complicated spatial configuration
- 1. Sankt-Peterburgskij Ehlektrotekhnicheskij Univ. LEhTI, Sankt-Peterburg (Russian Federation)
Description
The possibility of providing for uniform properties of the Ta2O5 films on the surface of substrates, having complex form, is considered. The attempt is made to consider the sputtered atoms transport in the space of the target-substrate drift through the determination of the thermalization zone geometrical sizes and the subsequent transition of the sputtered particles into the diffusion mode. Various calculational models and static modeling methods are used for describing the process of the sputtered particles transport
Abstract (Russian)
Рассмотрена возможность обеспечения равномерных свойств пленок Ta2O5 на поверхностти подложек, имеющих сложную форму. Сделана попытка рассмотрения процесса транспорта распыленных атомов в пространстве дрейфа мишень-подложка с определения геометрических размеров зоны термализации и последующего перехода движения распыленных частиц в диффузионный режим. Для описания процесса переноса распыленных частиц использованы различные расчетные модели и методы статического моделирования. Полученные результаты положены в основу оптимизации технологических процессов нанесения пленочных покрытий Ta2O5 на протяженные подложки сложной пространственной конфигурацииAdditional details
Additional titles
- Original title (Russian)
- Особенности переноса распыленных атомов при нанесении пленок Та
Publishing Information
- Journal Title
- Pis'ma v Zhurnal Tekhnicheskoj Fiziki
- Journal Volume
- 28
- Journal Issue
- 5
- Journal Page Range
- p. 5-11
- ISSN
- 0320-0116
- CODEN
- PZTFDD
INIS
- Country of Publication
- Russian Federation
- Country of Input or Organization
- Russian Federation
- INIS RN
- 34045467
- Subject category
- S75: CONDENSED MATTER PHYSICS, SUPERCONDUCTIVITY AND SUPERFLUIDITY;
- Descriptors DEI
- ANGULAR DISTRIBUTION; ATOM TRANSPORT; COATINGS; ION BEAMS; MASS TRANSFER; MATHEMATICAL MODELS; NUMERICAL SOLUTION; PAIRING INTERACTIONS; SPATIAL DISTRIBUTION; SPUTTERING; SUBSTRATES; TANTALUM OXIDES
- Descriptors DEC
- BEAMS; CHALCOGENIDES; DISTRIBUTION; INTERACTIONS; MATHEMATICAL SOLUTIONS; NEUTRAL-PARTICLE TRANSPORT; OXIDES; OXYGEN COMPOUNDS; RADIATION TRANSPORT; REFRACTORY METAL COMPOUNDS; TANTALUM COMPOUNDS; TRANSITION ELEMENT COMPOUNDS
Optional Information
- Notes
- 6 refs., 2 figs.