Published December 2004 | Version v1
Journal article Metadata-only

Potential of flat channeling in surface layer of LiH crystal

Creators

  • 1. Armyanskij Pedagogicheskij Univ. im. Kh. Abovyana, Erevan (Armenia)

Description

Behaviour of potential of flat channeling in surface layer of LiH crystal. It is shown that the flat potential in the crystal surface layer to a certain degree differs from the potential in the crystal depth. This difference is minute (of 3 % order). It is shown also that the layer thickness wherein this change takes place is negligible in comparison with the dechanneling length

Abstract (Russian)

Исследуется поведение потенциала плоскостного каналирования в поверхностном слое кристалла LiH. Показано, что потенциал в поверхностном слое кристалла несколько отличается от потенциала в глубине кристалла. Это отличие мало, порядка 3 %. Показано также, что толщина слоя, в котором имеет место это изменение, пренебрежимо мала по сравнению с длиной деканалирования

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Потенциал плоскостного каналирования в поверхностном слое кристалла LiH

Publishing Information

Journal Title
Zhurnal Tekhnicheskoj Fiziki
Journal Volume
74
Journal Issue
12
Journal Page Range
p. 98-100
ISSN
0044-4642
CODEN
ZTEFA3

INIS

Country of Publication
Russian Federation
Country of Input or Organization
Russian Federation
INIS RN
37104122
Subject category
S75: CONDENSED MATTER PHYSICS, SUPERCONDUCTIVITY AND SUPERFLUIDITY;
Descriptors DEI
CHANNELING; CRYSTALS; DEPTH; DIAGRAMS; LITHIUM HYDRIDES; SPATIAL DISTRIBUTION; SURFACE POTENTIAL
Descriptors DEC
ALKALI METAL COMPOUNDS; DIMENSIONS; DISTRIBUTION; HYDRIDES; HYDROGEN COMPOUNDS; INFORMATION; LITHIUM COMPOUNDS; POTENTIALS

Optional Information

Notes
3 refs., 2 figs., 1 tab.