Published January 1976 | Version v1
Journal article

Neutron-irradiated silicon for highest power electronic devices

Description

The article reports on the doping of silicon with phosphorus via the irradiation of 30Si with thermal neutrons and the decay of 31Si into 31P. This method enables the production of semiconducter contructional elements with extreme properties. (WL/AK)

Abstract (German)

Berichtet wird ueber das Verfahren zur Dotierung von Silicium mit Phosphor ueber die Bestrahlung von 30Si mit thermischen Neutronen und dem Zerfall von 31Si in 31P. Nach diesem Verahren lassen sich Halbleiterbauelemente mit extremen Eigenschaften herstellen. (WL)

Additional details

Additional titles

Original title (German)
Neutronenbestrahltes Silizium fuer Hoechstleistungsbauelemente

Publishing Information

Journal Title
Phys. Unserer Zeit
Journal Volume
7
Journal Issue
1
Series
Phys. Unserer Zeit.
Journal Page Range
1-2

Optional Information

Notes
3 figs.; 1 ref.