Published January 13, 1977
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Patent
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Chamber for gas etching, ion etching or vapor coating
Description
The invention relates to an improvement of a chamber for gas etching, ion etching or vapor coating surfaces. The improvement refers to the type of movable specimen holder within the chamber. This allows the specimen to be moved without damaging the vacuum. As a consequence, the specimen can be observed under the microscope either periodically or continuously. Even remote control is possible (in hot cells). (GSC)
Availability note (English)
MF available from INIS under the Report Number; Available from Dt. Patentamt, Muenchen (FRG).Abstract (German)
Die Erfindung betrifft eine Verbesserung an einer Kammer, in der Gasaetzung, Ionenaetzung oder die Bedampfung einer Oberflaeche durchgefuehrt wird. Die Verbesserung bezieht sich auf die Art der beweglichen Probenhalterung innerhalb der Kammer. Sie erlaubt es, die Probe zu bewegen, ohne dass das Vakuum verletzt wird. Die Probe kann daher periodisch oder dauernd unter mikroskopischer Beobachtung stehen, auch Fernbedienung (in kurzen Zellen) ist moeglich. (GSC)Files
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Additional details
Additional titles
- Original title (German)
- Kammer fuer die Gasaetzung, Ionenaetzung oder Bedampfung
Publishing Information
- Imprint Pagination
- 3 p.
- IPC:
- Int. Cl. C23F 1/08; C23C 13/08; G01N 21/00.
- IPC
- Int. Cl. C23F 1/08; C23C 13/08; G01N 21/00.
- Patent number
- DE patent document 2313801/C/
INIS
- Country of Publication
- Germany
- Country of Input or Organization
- Germany
- INIS RN
- 8338070
- Subject category
- S42: ENGINEERING;
- Descriptors DEI
- ELECTRODES; ETCHING; HIGH VACUUM; LABORATORY EQUIPMENT; MICROSCOPY; REMOTE HANDLING EQUIPMENT; SAMPLE HOLDERS; SPRAY COATING
- Descriptors DEC
- DEPOSITION; SURFACE COATING; SURFACE FINISHING
Optional Information
- Notes
- 2 figs.