X-ray photoelectron diffraction by Nb(110) surface
Creators
- 1. Inst. Khimii Tverdogo Tela, Ekaterinburg (Russian Federation)
Description
Experimental and theoretical study results on X-ray photoelectron diffraction by an unalloyed niobium face (110)Nb and epitaxial layers of Nb(Ta)/(110)Nb are reported. A diffraction 2π-pattern of a (110)Nb surface is obtained with Nb3d-photoelectron irradiation (Ekin ∼ 1050 eV) and is discussed in the framework of models of single-stage (SSC-SW) and multistage (MSC-SW) photoelectron scattering. The limitations on the single-stage scattering approach when describing angular dependences of X-ray photoelectron diffraction by a (110)Nb face are demonstrated. It is shown that a (110) niobium surface is well described by the MSC-SW model of six-layer cluster with BCC structure, the parameters of multistage scattering are calculated which determine experimentally observed effect of photoemission intensity weakening (defocusing effect) for close-packed [100] and [111] directions. Tantalum deposition on (110)Nb at Τ∼2300 K results in formation of epitaxial layer (110) of Nb(Ta) disordered BCC solid solution
Abstract (Russian)
Представлены результаты экспериментального и теоретического исследования рентгеновской фотоэлектронной дифракции чистой грани ниобия (110)Nb и эпитаксиальных слоев Nb(Ta)/(110)Nb. Дифракционная 2π-картина поверхности (110)Nb получена в излучении Nb3d-фотоэлектронов (Екин. ∼ 1050 эВ) и обсуждается в рамках моделей однократного (SSC-SW) и многократного (MSC-SW) рассеяния фотоэлектронов. Продемонстрированы ограничения подхода однократного рассеяния при описании угловых РФД-зависимостей грани (110)Nb. Показано, что поверхность (110) ниобия хорошо описывается MSC-SW-моделью шестислойного кластера с ОЦК-структурой, рассчитаны параметры многократного рассеяния, определяющие экспериментальный эффект ослабления интенсивности фотоэмиссии (эффект дефокусировки) для плотноупакованных направлений [100] и [111]. Осаждение тантала на (110)Nb при Τ∼2300 К приводит к формированию эпитаксиального слоя (110) неупорядоченного ОЦК-твердого раствора Nb(Ta)Additional details
Additional titles
- Original title (Russian)
- Рентгеновская фотоэлектронная дифракция на поверхности (110)Нб
Publishing Information
- Journal Title
- Fizika Metallov i Metallovedenie
- Journal Volume
- 96
- Journal Issue
- 5
- Journal Page Range
- p. 79-86
- ISSN
- 0015-3230
- CODEN
- FMMEA9
INIS
- Country of Publication
- Russian Federation
- Country of Input or Organization
- Russian Federation
- INIS RN
- 35090425
- Subject category
- S36: MATERIALS SCIENCE;
- Descriptors DEI
- ANGULAR DISTRIBUTION; CRYSTAL STRUCTURE; DIFFRACTION METHODS; ELECTRON SPECTRA; EPITAXY; MATHEMATICAL MODELS; MONOCRYSTALS; NIOBIUM; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; PHOTOEMISSION; TANTALUM; VAPOR DEPOSITED COATINGS; X-RAY DIFFRACTION
- Descriptors DEC
- COATINGS; COHERENT SCATTERING; CRYSTAL GROWTH METHODS; CRYSTALS; DIFFRACTION; DISTRIBUTION; ELECTRON SPECTROSCOPY; ELEMENTS; EMISSION; METALS; REFRACTORY METALS; SCATTERING; SECONDARY EMISSION; SPECTRA; SPECTROSCOPY; TRANSITION ELEMENTS
Optional Information
- Notes
- 30 refs., 6 figs.