Published January 11, 1985 | Version v1
Patent

Negative ion source

Description

The negative ion source application in production of energetic neutral atom beams is avantageous; these neutral atom beams are used, for instance, as an efficient mean of heating at thermonuclear temperatures plasmas producted in magnetic confinement fusion devices. The good neutralization rate (>60%) of H- and D- ions at these high energies make them more interesting than positive ions for production of atom beams having an energy in excess of 80 keV/nucleon. The recent discovery of a strong production of H- and D- negative ions by dissociative attachment to H2 and D2 molecules having a strong vibrational excitation and the observation of strong negative ion densities in hydrogen and deuterium plasmas have suggested the H- and D- negative ion extraction from multicusp type plasma generators

Availability note (English)

Available from Institut National de la Propriete Industrielle, Paris (France).

Abstract (French)

Cette source d'ions negatifs s'applique avantageusement dans la production des faisceaux d'atomes neutres energetiques qui sont utilises par exemple comme un moyen efficace de chauffage a des temperatures thermonucleaires des plasmas produits dans les dispositifs de fusion a confinement magnetique. Le bon rendement de neutralisation (>60%) des ions H- et D- a ces hautes energies les rend plus interessants que les ions positifs pour la production de faisceaux d'atomes ayant une energie superieure a 80 keV/nucleon. La decouverte recente d'une forte production d'ions negatifs H- ou D- par attachement dissociatif a des molecules H2 ou D2 ayant une forte excitation vibrationnelle et l'observation de fortes densites d'ions negatifs dans des plasmas d'hydrogene et de deuterium (M. Bacal, G.W. Hamilton, Phys. Rev. Letters, 42, 1538 (1979)) ont suggere d'extraire des ions negatifs H- ou D- des generateurs de plasma de type ''multipole magnetique'' (que l'on designe comme ''multicusp'' dans la terminologie anglo-saxonne) developpes en vue de la production des faisceaux d'ions positifs

Additional details

Additional titles

Original title (French)
Source d'ions negatifs

Publishing Information

Imprint Pagination
17 p.
IPC:
Int. Cl. H01j45/00; G21b1/00; H05h1/02.
IPC
Int. Cl. H01j45/00; G21b1/00; H05h1/02.
Patent number
FR patent document 2548830/A/

INIS

Country of Publication
France
Country of Input or Organization
France
INIS RN
16080828
Subject category
S07: ISOTOPES AND RADIATION SOURCES;
Resource subtype / Literary indicator
Non-conventional Literature
Descriptors DEI
ANIONS; DEUTERIUM IONS; ELECTRON EMISSION; HYDROGEN IONS; ION SOURCES; MULTIPOLAR CONFIGURATIONS; NEUTRAL BEAM SOURCES; PLASMA CONFINEMENT; THERMIONIC EMITTERS; VIBRATIONAL STATES
Descriptors DEC
CHARGED PARTICLES; CLOSED CONFIGURATIONS; CONFINEMENT; EMISSION; ENERGY LEVELS; EXCITED STATES; IONS; MAGNETIC FIELD CONFIGURATIONS

Optional Information

Secondary number(s)
FR patent application 8311084.