Published September 1973 | Version v1
Journal article

On distribution of impurity atoms and charge-carriers in silicon while doping by the method of recoil atoms and on the application of the method for improving contact resistivity

  • 1. Gor'kovskij Gosudarstvennyj Univ. (USSR). Issledovatel'skij Fiziko-Tekhnicheskij Inst.

Description

no abstract available

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
О распределении примесных атомов и носителей тока в кремнии при легировании методом атомов отдачи и использовании этого метода для улучшения омичности контактов

Publishing Information

Journal Title
Fiz. Tekh. Poluprovodn.
Journal Volume
7
Journal Issue
9
Series
Fiz. Tekh. Poluprovodn.
Journal Page Range
1722-1726

Optional Information

Notes
For English translation see the journal Sov. Phys. - Semicond.