Published 2000 | Version v1
Journal article

Vanadium, molybdenum and tantalum silicide sputtering by low-energy Ar+

  • 1. Fiziko-Tekhnicheskij Inst. im. A.F. Ioffe RAN, Sankt-Peterburg (Russian Federation)
  • 2. Rossijskij Nauchmyj Tsentr Prikladnaya Khimiya, Sankt-Peterburg (Russian Federation)

Description

One investigates into the modification of monocrystal surface resulting from sputtering by the near-the-threshold energy ions using VSi2, MoSi2 and TaSi2 bombarded by 2-35 eV energy Ar+ ions as an example. The experimental values of the component sputtering threshold energies for vanadium, molybdenum and tantalum silicides are determined. On the basis of the experimentally investigated materials one shows the model of several collisions enables to predict correctly the values of the component sputtering threshold energies

Abstract (Russian)

Изучается модификация поверхности монокристаллов в результате распыления ионами околопороговых энергий на примере VSi2, MoSi2 и TaSi2, бомбардируемых ионами Ar+ с энергией от 2 до 35 эВ. Определены экспериментальные значения пороговых энергий распыления компонентов для силицидов ванадия, молибдена и тантала. На примере экспериментально исследованных материалов показано, что модель нескольких столкновений позволяет правильно предсказать значения пороговых энергий распыления компонентов

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Распыление силицидов ванадия, молибдена и тантала низкоэнергетическими ионами Ар

Publishing Information

Journal Title
Izvestiya Akademii Nauk. Rossijskaya Akademiya Nauk. Seriya Fizicheskaya
Journal Volume
64
Journal Issue
4
Journal Page Range
p. 741-742
ISSN
1026-3489
CODEN
IRAFEO

Conference

Title
14. International conference on ion surface interaction
Original Conference Title
14. Mezhdunarodnaya konferentsiya po vzaimodejstviyu ionov s poverkhnost'yu
Dates
30 Aug - 4 Sep 1999
Place
Zvenigorod (Russian Federation)

Optional Information

Notes
5 refs., 1 fig.