Published September 2001 | Version v1
Journal article

Intensity of evaporation fields of metals in an electrical field and sputtering of metals at an ionic bombardment

  • 1. Inst. Metallurgii UrO RAN, Ekaterinburg (Russian Federation)

Description

The electric field intensity for liquid metal evaporation is calculated. The correlation is established between the evaporating field intensity, ion sputtering and boiling temperatures for a number of metals (W, Nb, Mo, Ti, Co, Ni) with accounting for the fact that above-mentioned parameters characterize the expenditure of energy for removal of one-charge ions. It is shown that the dependence of evaporating field intensity on the number of the metal in the Periodic system is of oscillating nature. The disagreement between evaporating field intensity and Ar+ ion sputtering for such metals as Cr, Ag, Cu can be explained by multi-charge type of sputtered particles

Abstract (Russian)

Проведен расчет напряженности электрического поля при испарении жидких металлов. Установлена корреляция между напряженностью испаряющего поля, ионным распылением и температурой кипения для ряда металлов (W, Nb, Mo, Ti, Co, Ni) с учетом того, что указанные параметры характеризуют затраты энергии на удаление однозарядных ионов. Показано, что изменение напряженности испаряющих полей от порядкового номера в периодической системе носит осциллирующий характер. Отмечено, что нарушение согласия напряженности испаряющих полей и распыления таких металлов, как Cr, Ag, Cu, бомбардировкой ионами Аr+ может быть объяснено многозарядностью распыляемых частиц

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Напряженност' испаряющих полей металлов в электрическом поле и распыление металлов при бомбардировке ионами

Publishing Information

Journal Title
Rasplavy
Journal Issue
no.5
Journal Page Range
p. 10-13
ISSN
0235-0106
CODEN
RASPEM

Optional Information

Notes
4 refs.; 3 tabs.; 1 fig.