Published February 12, 2001
| Version v1
Journal article
Electric field effect on the charge state of the ion implanted structures of silicon-silicon dioxide
- 1. NII Fiziki Sankt-Peterburgskogo Gosudarstvennogo Univ., Sankt-Peterburg (Russian Federation)
Description
It is established that the Ar ions implantation into the oxide layer of the Si-SiO2 structures leads to formation in the SiO2 volume of the positive and near-the-surface of Si the negative charges (beginning from the dose 1014 cm-2). The change in the charge state of the given structures under the electric field effect is studied. It is shown that negatively charged centers are hole traps, recharged in the electric field up to the neutral state
Abstract (Russian)
Установлено, что имплантация ионов Ar в окисный слой структур Si-SiO2 приводит к образованию в объеме SiO2 положительного и ближе расположенного к поверхности Si отрицательного (начиная с дозы 1014 см-2) зарядов. Исследовано изменение зарядового состояния данных структур под действием электрического поля. Показано, что отрицательно заряженные центры являются дырочными ловушками, перезаряженными в электрическом поле до нейтрального состоянияAdditional details
Additional titles
- Original title (Russian)
- Влияние электрического поля на зарядовое состояние ионно-имплантированных структур кремний — двуокись кремния
Publishing Information
- Journal Title
- Pis'ma v Zhurnal Tekhnicheskoj Fiziki
- Journal Volume
- 27
- Journal Issue
- 3
- Journal Page Range
- p. 89-94
- ISSN
- 0320-0116
- CODEN
- PZTFDD
INIS
- Country of Publication
- Russian Federation
- Country of Input or Organization
- Russian Federation
- INIS RN
- 33012384
- Subject category
- S75: CONDENSED MATTER PHYSICS, SUPERCONDUCTIVITY AND SUPERFLUIDITY;
- Descriptors DEI
- ARGON IONS; CRYSTAL DEFECTS; ELECTRIC CHARGES; ELECTRIC FIELDS; HOLES; ION IMPLANTATION; RADIATION DOSES; SEMICONDUCTOR JUNCTIONS; SILICA; SILICON
- Descriptors DEC
- CHALCOGENIDES; CHARGED PARTICLES; CRYSTAL STRUCTURE; DOSES; ELEMENTS; IONS; MINERALS; OXIDE MINERALS; OXIDES; OXYGEN COMPOUNDS; SEMIMETALS; SILICON COMPOUNDS; SILICON OXIDES
Optional Information
- Notes
- 4 refs., 2 figs.