Published August 2006
| Version v1
Journal article
Modeling of process of thin film deposition by low-energy ion bombardment within diffusion approximation
Creators
- 1. Zaporozhskij Natsional'nyj Tekhnicheskij Univ., Zaporozh'e (Ukraine)
- 2. Donetskij Natsional'nyj Univ., Donetsk (Ukraine)
Description
On the diffusion approximation basis one elaborated a model of low-energy ion deposition of thin films with regard to ion mixing and sputtering of the surface. The elaborated model enables to study the evolution of the deposited film concentration profile. One studied the cases of deposition rate variation and of dynamic equilibrium on the deposited surface
Abstract (Russian)
На основе диффузионного приближения разработана модель низкоэнергетического ионного напыления тонких пленок с учетом ионного перемешивания и распыления поверхности. Полученная модель позволяет исследовать эволюцию концентрационного профиля осаждаемой пленки. Исследованы случаи изменения скорости напыления и динамического равновесия на напыляемой поверхностиAdditional details
Additional titles
- Original title (Russian)
- Моделирование процесса напыления тонких пленок низкоэнергетической ионной бомбардировкой в диффузионном приближении
Publishing Information
- Journal Title
- Izvestiya Akademii Nauk. Rossijskaya Akademiya Nauk. Seriya Fizicheskaya
- Journal Volume
- 70
- Journal Issue
- 8
- Journal Page Range
- p. 1189-1191
- ISSN
- 1026-3489
- CODEN
- IRAFEO
Conference
- Title
- 17. International conference Ion-surface interaction
- Original Conference Title
- XVII Mezhdunarodnaya konferentsiya Vzaimodejstvie ionov s poverkhnost'yu
- Dates
- 25-29 Aug 2005
- Place
- Zvenigorod (Russian Federation)
INIS
- Country of Publication
- Russian Federation
- Country of Input or Organization
- Russian Federation
- INIS RN
- 39052350
- Subject category
- S75: CONDENSED MATTER PHYSICS, SUPERCONDUCTIVITY AND SUPERFLUIDITY;
- Resource subtype / Literary indicator
- Conference
- Descriptors DEI
- ATOMS; COMPUTERIZED SIMULATION; DEPOSITION; DIFFUSION; FILMS; ION IMPLANTATION; IONS; MATHEMATICAL MODELS; MIXING; SPATIAL DISTRIBUTION; SPUTTERING; TIME DEPENDENCE
- Descriptors DEC
- CHARGED PARTICLES; DISTRIBUTION; SIMULATION
Optional Information
- Notes
- 12 refs., 3 figs.