Published November 1999
| Version v1
Journal article
Nucleation and growth of new phases in nitrogen- and boron-ion implanted molybdenum-silicon bilayer films
Description
Study on the effect of the nitrogen and boron ions implantation on the phases nucleation and growth in the molybdenum-silicon thin films depending on the implantation dose and annealing temperature is carried out. It is shown that the phases primary growth in the molybdenum layers may be regulated by the implantation conditions: silicide phases are originated and grown in the layer, wherein the energy yielded by elastic collisions is at its maximum
Abstract (Russian)
Проведено исследование влияния имплантации ионами азота и бора на зарождение и рост фаз в тонких пленках молибден-кремний в зависимости от дозы имплантации и температуры отжига. Показано, что преимущественный рост фаз в слоях молибдена или кремния может регулироваться условиями имплантации: силицидные фазы зарождаются и растут в том слое, в котором максимальна выделенная при упругих столкновениях энергияAdditional details
Additional titles
- Original title (Russian)
- Особенности зарождения и роста фаз в двухслойных пленках молибден-кремний, имплантированных ионами азота и бора
Publishing Information
- Journal Title
- Neorganicheskie Materialy
- Journal Volume
- 35
- Journal Issue
- 11
- Journal Page Range
- p. 1337-1340
- ISSN
- 0002-337X
- CODEN
- NEOMB8
INIS
- Country of Publication
- Russian Federation
- Country of Input or Organization
- Russian Federation
- INIS RN
- 31035687
- Subject category
- S36: MATERIALS SCIENCE;
- Descriptors DEI
- ANNEALING; BORON ISOTOPES; ION BEAMS; ION IMPLANTATION; MOLYBDENUM; NITROGEN IONS; PHASE STUDIES; PHYSICAL RADIATION EFFECTS; SILICON; TEMPERATURE RANGE 1000-4000 K; THIN FILMS
- Descriptors DEC
- ALLOYS; BEAMS; CHARGED PARTICLES; ELEMENTS; FILMS; HEAT TREATMENTS; IONS; ISOTOPES; METALS; RADIATION EFFECTS; REFRACTORY METALS; SEMIMETALS; TEMPERATURE RANGE; TRANSITION ELEMENTS
Optional Information
- Notes
- 6 refs., 5 figs., 1tab.