Published May 2006 | Version v1
Journal article Metadata-only

Mechanisms of mutual penetration of the components in substrate - thin film composition produced by ion beam assisted deposition technique

Creators

  • 1. Belorusskij Gosudarstvennyj Pedagogicheskij Univ., Minsk (Belarus)
  • 2. GNU Inst. Poroshkovoj Metallurgii, Minsk (Belarus)

Description

Mechanisms of coating formation are considered when depositing on a substrate under conditions of ion assisted bombardment with own atoms included. It is shown that mechanisms of ballistic mixing and mixing in thermal spikes of atomic collision cascades cannot explain experimentally observed effect of substrate atoms diffusion to the coating. This effect is possible to be related to radiation-induced back diffusion of crystal defects resulted from ion bombardment

Abstract (Russian)

Рассмотрены механизмы формирования покрытия при его осаждении на подложку в условиях ассистирующей ионной бомбардировки, в том числе и собственными ионами. Показано, что механизмы баллистического перемешивания, так же, как и перемешивания в термических пиках каскадов атомных столкновений, не способны объяснить экспериментально наблюдаемый эффект диффузии атомов подложки в покрытие. Предполагается, что этот эффект может быть связан с радиационно-стимулированной встречной диффузией кристаллических дефектов, создаваемых ионной бомбардировкой

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Механизмы взаимного проникновения компонентов в композиции подложка - тонкая пленка, формируемой при ионно-ассистированном осаждении покрытия

Publishing Information

Journal Title
Fizika i Khimiya Obrabotki Materialov
Journal Issue
no.3
Journal Page Range
p. 29-32
ISSN
0015-3214
CODEN
FKOMAT

INIS

Country of Publication
Russian Federation
Country of Input or Organization
Russian Federation
INIS RN
38001847
Subject category
S36: MATERIALS SCIENCE;
Descriptors DEI
ANALYTICAL SOLUTION; ATOMIC DISPLACEMENTS; CRYSTAL DEFECTS; DIFFUSION; INTERFACES; ION BEAMS; ION IMPLANTATION; MIXING; NUCLEAR CASCADES; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION; SUBSTRATES; THERMAL SPIKES; THIN FILMS
Descriptors DEC
BEAMS; CRYSTAL STRUCTURE; DEPOSITION; ENERGY-LEVEL TRANSITIONS; FILMS; MATHEMATICAL SOLUTIONS; PHYSICAL RADIATION EFFECTS; RADIATION EFFECTS; SURFACE COATING

Optional Information

Notes
11 refs., 1fig.