Published November 2006 | Version v1
Journal article

Friedel oscillations in yttrium nanofilms deposited on silicon Si(111) 7 x 7 surface

  • 1. Fiziko-Tekhnicheskij Inst. im. A.F. Ioffe RAN, Sankt-Peterburg (Russian Federation)

Description

One revealed and studied experimentally the nonmonotonic dependence of the work function of ytterbium nanofilms deposited on Si(111) single-crystal silicon on their thickness. The mentioned nature of the dependence is shown to be caused by the electron density oscillations in the films (the Friedel oscillations) generated by the ytterbium-silicon interface. The mentioned oscillations, in their turn, result from the essential transfer of charge from the ytterbium film characterized by the low work function to silicon

Abstract (Russian)

Экспериментально обнаружена и исследована немонотонная зависимость работы выхода нанопленок иттербия, осажденных на монокристаллический кремний Si(111), от их толщины. Показано, что такой характер зависимости обусловлен осцилляциями электронной плотности в пленках (осцилляции Фриделя), генерируемых границей раздела иттербий-кремний. Эти осцилляции в свою очередь являются следствием значительного переноса заряда из пленки иттербия, имеющей малую работу выхода, к кремнию

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Осцилляции Фриделя в нанопленках иттербия, осажденных на поверхность кремния Si(111) 7 × 7

Publishing Information

Journal Title
Fizika Tverdogo Tela
Journal Volume
48
Journal Issue
11
Journal Page Range
p. 2085-2088
ISSN
0367-3294
CODEN
FTVTAC

INIS

Optional Information

Notes
15 refs., 4 figs.