Published October 26, 2001 | Version v1
Journal article

Dependence of the depth distribution of implanted silver ions on the temperature of irradiated glass

  • 1. Kazanskij Fiziko-Tekhnicheskij Inst. RAN, Kazan' (Russian Federation)
  • 2. Inst. Fiziki 1, Tekhnicheskij Univ. Aakhena, Aakhen (Germany)

Description

The peculiarities of the glass ion implantation by the silver ions in dependence on the substrate temperature within the interval of 20-100 deg C are studied. Modeling the profiles of the implanted ions distribution in depth with an account of the thermostimulated increase in the admixture diffusion mobility is carried out. It is shown, that increase in the substrate temperature leads to the diffusion wash-out of the introduced admixture ions distribution. The analysis of the modeling results indicates the necessity of strict control of the substrate temperature by the dielectrics implantation for obtaining the conditions for the metal nanoparticles synthesis

Abstract (Russian)

Исследуются особенности ионной имплантации стекла ионами серебра в зависимости от температуры подложки в интервале 20-100 град С. Проведено моделирование профилей распределения имплантированных ионов по глубине с учетом термостимулированного увеличения диффузионной подвижности примеси. Показано, что повышение температуры подложки приводит к диффузионному размытию распределения внедренных примесных ионов. Анализ результатов моделирования указывает на необходимость строгого контроля температуры подложки при имплантации диэлектриков для достижения условий синтеза металлических наночастиц

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Зависимость распределения имплантированных ионов серебра по глубине от температуры облучаемого стекла

Publishing Information

Journal Title
Pis'ma v Zhurnal Tekhnicheskoj Fiziki
Journal Volume
27
Journal Issue
20
Journal Page Range
p. 39-45
ISSN
0320-0116
CODEN
PZTFDD

Optional Information

Notes
10 refs., 1 fig.