Published August 2000
| Version v1
Journal article
Charged cluster emission during metal sputtering
Description
Technique to calculate metal sputtering in the form of high neutral and charged clusters with N ≥ 5 atom number under ion bombardment based on simple physical assumptions and conforming well with the experiment is proposed. Ionization degrees and factors, as well as, relative yields of clusters depending on the number of atoms contained in clusters at bombardment of various metals (Ag, Nb and Ta) by Ar+1 and Au-1 single-charged ions are calculated as an example. One develops the fluctuation mechanism of formation of large cluster charge composition enabling to describe dependences of charge distributions on cluster dimensions and target temperature
Abstract (Russian)
Предложен метод расчета распыления металла в виде больших нейтральных и заряженных кластеров с числом атомов N ≥ 5 при ионной бомбардировке, основанный на простых физических предположениях и находящийся в неплохом согласии с экспериментом. В качестве примера рассчитаны степени и коэффициенты ионизации, а также относительные выходы кластеров в зависимости от числа атомов в составе кластеров при бомбардировке различных металлов (Ag, Nb и Ta) однозарядными ионами Ar+1 и Au-1. Развит флуктационный механизм формирования зарядового состава больших кластеров, позволивший описать зависимости зарядовых распределений от размеров кластеров и температуры мишениAdditional details
Additional titles
- Original title (Russian)
- Эмиссия заряженных кластеров при ионном распылении металла
Publishing Information
- Journal Title
- Zhurnal Tekhnicheskoj Fiziki
- Journal Volume
- 70
- Journal Issue
- 8
- Journal Page Range
- p. 108-113
- ISSN
- 0044-4642
- CODEN
- ZTEFA3
INIS
- Country of Publication
- Russian Federation
- Country of Input or Organization
- Russian Federation
- INIS RN
- 32047221
- Subject category
- S36: MATERIALS SCIENCE;
- Descriptors DEI
- ARGON IONS; BINDING ENERGY; GOLD ISOTOPES; ION BEAMS; NIOBIUM; PHYSICAL RADIATION EFFECTS; SILVER; SOLID CLUSTERS; SPUTTERING; TANTALUM; TEMPERATURE DEPENDENCE; TEMPERATURE RANGE 0400-1000 K; TEMPERATURE RANGE 1000-4000 K
- Descriptors DEC
- ALLOYS; BEAMS; CHARGED PARTICLES; ELEMENTS; ENERGY; IONS; ISOTOPES; METALS; RADIATION EFFECTS; REFRACTORY METALS; TEMPERATURE RANGE; TRANSITION ELEMENTS
Optional Information
- Notes
- 20 refs., 8 figs., 1 tab.