Published August 2000 | Version v1
Journal article

Charged cluster emission during metal sputtering

Creators

  • 1. Otdel Teplofiziki AN Uzbekistana, Tashkent (Uzbekistan)

Description

Technique to calculate metal sputtering in the form of high neutral and charged clusters with N ≥ 5 atom number under ion bombardment based on simple physical assumptions and conforming well with the experiment is proposed. Ionization degrees and factors, as well as, relative yields of clusters depending on the number of atoms contained in clusters at bombardment of various metals (Ag, Nb and Ta) by Ar+1 and Au-1 single-charged ions are calculated as an example. One develops the fluctuation mechanism of formation of large cluster charge composition enabling to describe dependences of charge distributions on cluster dimensions and target temperature

Abstract (Russian)

Предложен метод расчета распыления металла в виде больших нейтральных и заряженных кластеров с числом атомов N ≥ 5 при ионной бомбардировке, основанный на простых физических предположениях и находящийся в неплохом согласии с экспериментом. В качестве примера рассчитаны степени и коэффициенты ионизации, а также относительные выходы кластеров в зависимости от числа атомов в составе кластеров при бомбардировке различных металлов (Ag, Nb и Ta) однозарядными ионами Ar+1 и Au-1. Развит флуктационный механизм формирования зарядового состава больших кластеров, позволивший описать зависимости зарядовых распределений от размеров кластеров и температуры мишени

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Эмиссия заряженных кластеров при ионном распылении металла

Publishing Information

Journal Title
Zhurnal Tekhnicheskoj Fiziki
Journal Volume
70
Journal Issue
8
Journal Page Range
p. 108-113
ISSN
0044-4642
CODEN
ZTEFA3

Optional Information

Notes
20 refs., 8 figs., 1 tab.