Published November 2006 | Version v1
Journal article

Production and study of erbium films on optical materials

  • 1. Tashkentskij Univ. Informatsionnykh Tekhnologij, Tashkent (Uzbekistan)
  • 2. Tashkentskij Gosudarstvennyj Tekhnicheskij Univ., Tashkent (Uzbekistan)

Description

To develop a process of erbium ion implant doping of optical materials one performed a series of pilot experiments to ensure thermal vacuum precipitation of erbium on quartz substrates. The coating depth constituted 50-500 nm. The element composition of the precipitated layer was studied. Erbium addition to the optical materials to ensure high coefficients of the optical intensification is recommended to be conducted at up to 100 keV energy ion implantation facility by 1016-1019 at/cm2 doses making use of ion homogenization followed by annealing under up to 500 deg C temperatures

Abstract (Russian)

С целью разработки технологии ионного легирования эрбием оптических материалов проведены предварительные эксперименты по термическому вакуумному осаждению эрбия на кварцевые подложки. Толщина покрытия составляла 50-500 нм. Изучен элементный состав осажденного слоя. Введение эрбия в оптические материалы для получения больших коэффициентов оптического усиления предлагается проводить на установке ионной имплантации с энергией ионов до 100 кэВ дозами 1016-1019 ат/см2 с использованием ионного перемешивания и последующего отжига при температурах до 500 град С

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Получение и исследование свойств пленок эрбия на оптических материалах

Publishing Information

Journal Title
Izvestiya Akademii Nauk. Rossijskaya Akademiya Nauk. Seriya Fizicheskaya
Journal Volume
70
Journal Issue
11
Journal Page Range
p. 1677-1678
ISSN
1026-3489
CODEN
IRAFEO

Optional Information

Notes
The paper is reported at XVII International conference Ion-surface interaction; 3 refs., 2 figs., 2 tabs.