Published August 2001 | Version v1
Journal article

On the nature of the 5560 cm-1 divacancy absorption band in Si1-xGex

  • 1. Inst. Fiziki NAN Ukrainy, Kiev (Ukraine)
  • 2. Inst. Fiziki Tverdogo Tela RAN, Chernogolovka (Russian Federation)
  • 3. Inst. Rosta Kristallov, Berlin (Germany)

Description

It has been shown that in Si1-xGex (0 ≤ x ≤ 0.15) single crystals two type centers are formed during irradiation: divacancies V2, that are characteristic of silicon, and V*2, which are complexes of V2 with Ge atoms (V2Ge). As a result, the absorption band near 5560 cm-1 is a superposition of two absorption bands corresponding to these centers. During an isochronous annealing in the temperature range of 100-400 deg C, an interaction of the diffusion V2 with Ge atoms takes place and the additional formation of the V*2 is observed. The V*2 centers are more thermally stable than V2 ones and their annealing temperature rises with Ge content increasing

Abstract (Russian)

Обнаружено, что в монокристаллах Si1-xGex (0 ≤ x ≤ 0.15) в процессе облучения быстрыми электронами образуются два типа центров: дивакансии V2, характерные для кремния, и V*2 - комплексы дивакансий V2 с атомами германия (V2Ge), а полоса поглощения вблизи 5560 см-1 является суперпозицией двух полос поглощения, соответствующих этим центрам. При изохронном отжиге в интервале температур 100-400 град С диффундирующие V2 взаимодействуют с атомами германия, приводя к дополнительному образованию V*2. Центры V*2 более термостабильны, чем V2, и температура их отжига повышается с увеличением содержания германия

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
О природе полосы поглощения дивакансии 5560 cм

Publishing Information

Journal Title
Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov
Journal Volume
35
Journal Issue
8
Journal Page Range
p. 927-931
ISSN
0015-3222
CODEN
FTPPA4

Optional Information

Notes
24 refs., 5 figs.