Published January 2005 | Version v1
Journal article

The effect of an interfacial oxide layer on electroluminescence efficiency in metal-quantum size semiconductor heterostructures In(Ga)As/GaAs

  • 1. Nauchno-Issledovatel'skij Fiziko-Tekhnicheskij Inst. Nizhegorodskogo Gosudarstvennogo Univ. im. N.I. Lobachevskogo, Nizhnij Novgorod (Russian Federation)

Description

Light emitting properties of the quantum size GaAs/In(Ga)As/GaAs heterostructures with Schottky barrier were investigated. The effect of different surface treatments of these structures on electroluminescence (EL) efficiency of forward-biased Schottky diodes was studied. It was established that CCl4 surface exposure at 580 deg C followed by anode oxidation enhance the EL intensity most of all. It was shown that the presence of a tunnel-thin interfacial anode oxide is the important factor for providing the injection of minority carriers from metal into gallium arsenide. The EL efficiency depends substantially on anodic oxide thickness

Abstract (Russian)

Исследовано влияние различных способов обработки поверхности квантово-размерных гетероструктур GaAs/In(Ga)As/GaAs на эффективность электролюминесценции изготовленных на их основе диодов с барьером Шоттки. Установлено, что наибольший эффект увеличения интенсивности электролюминесценции наблюдается от экспонирования поверхности в CCl4 при температуре 580 град С с последующим анодным окислением. Показано, что промежуточный туннельно-тонкий анодный окисел играет важную роль в обеспечении инжекции неосновных носителей из металла в арсенид галлия. Эффективность электролюминесценции существенно зависит от толщины анодного окисла

Additional details

Additional titles

Original title (Russian)
Влияние промежуточного окисного слоя в гетероструктурах металл-квантово-размерный полупроводник Ин(Га)Ас/GaAs

Publishing Information

Journal Title
Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov
Journal Volume
39
Journal Issue
1
Journal Page Range
p. 25-29
ISSN
0015-3222
CODEN
FTPPA4

Conference

Title
Nanophotonics-2004
Original Conference Title
Soveshchanie: Nanofotonika-2004
Acronym
Conference
Dates
2-6 May 2004
Place
Nizhnij Novgorod (Russian Federation)

Optional Information

Notes
12 refs., 4 figs.