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Keller, R.; Mueller, M.
Gesellschaft fuer Schwerionenforschung m.b.H., Darmstadt (Germany, F.R.); Deutsches Patentamt, Muenchen (Germany, F.R.)1977
Gesellschaft fuer Schwerionenforschung m.b.H., Darmstadt (Germany, F.R.); Deutsches Patentamt, Muenchen (Germany, F.R.)1977
AbstractAbstract
[en] The invention concerns an ion source for generating high-radiation (> 1012 particles per second) beams of highly charged ions from arbitrary elements in continuous-task operation or pulsed with large keying ratios (>=10%), ion beams constant in tune with the specific charge > 0.046 eo/Mo being kept up for at least 20 hours. In order to exceed the excitation energy thresholds of the highly charged ions to be produced the source is operated with larger discharge voltages (>200v). By means of an anode shield made of a high-melting nonmagnetic metal, which may also be cooled, with a narrow boring to be chosen according to the working gas, the plasma resistance is increased to an extent that the discharge power remains within tolerable limits. The anode opening is situated in the region of the maximum axial component of the magnetic field. The distribution of the magnetic flux density prevents the occurrence of plasma instabilities. For Xe, Ar, and Ti ions there are given state of charge, corresponding ion current, and keying ratio. (JS) 891 JS
[de]
Die Erfindung betrifft eine Ionenquelle zur Erzeugung intensiver (> 1012 Teilchen/Sec) Strahlen hochgeladener Ionen beliebiger Elemente im Dauerstrichbetrieb oder gepulst mit grossen Tastverhaeltnissen (>=10%), wobei zeitlich konstante Ionenstrahlen der spezifischen Ladung > 0,046 eo/Mo mindestens 20 Stunden aufrechterhalten werden. Um die Schwellen-Anregungsenergien der zu erzeugenden hochgeladenen Ionen uebertreffen, wird die Quelle mit groesseren Entladungsspannungen (> 200v) betrieben. Duch ein Anodenschild aus hochschmelzenden nichtmagnetischen Metall, das ausserdem kuehlbar ist, mit enger je nach Betriebsgas zu waehlende Bohrung wird der Plasma widerstand so draufgesetzt, dass die Entladungsleistung in ertraeglichen Grenzen bleibt. Die Durchtrittsoeffnung der Anode befindet sich im Bereich der maximalen Axialkompente des Magnetfeldes. Der Verlauf der Magnetflussdichte verhindert das Auftreten von Plasmainstabilitaeten. Fuer Ex, Ar, und Ti-Ionen werden Ladungszustand, zugehoeriger Ionenstrom und Tastverhaeltnis angegeben. (JS)Original Title
Quelle zur Erzeugung einfach und/oder mehrfach geladener Ionen
Primary Subject
Source
15 Sep 1977; 15 p; DE PATENT DOCUMENT 2610165/A/
Record Type
Patent
Country of publication
Reference NumberReference Number
INIS VolumeINIS Volume
INIS IssueINIS Issue