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AbstractAbstract
[en] A simple arrangement of gas laser for inductive plasma excitation at relatively low frequency of the excitation voltage is the object of the invention. An endless gas discharge chamber is claimed, which is surrounded in one section for AC voltage excitation of the gas contained in the gas discharge chamber by a magnetisable core carrying a primary winding, similar to the winding acting as secondary winding, and is characterised by the fact that a square pulse generator is provided to transmit an impulse sequence with an on/off ratio of 0.5 and a frequency of 1 MHz maximum on the primary winding. The endless gas discharge chamber is used in a gas ionisation laser with relatively large crossection, which is filled with the active medium taking part in the light emission. (GG)
[de]
Eine einfache Anordnung eines Gaslasers fuer eine induktive Plasmaanregung bei relativ niedriger Frequenz der Anregungsspannung ist Gegenstand der Erfindung. Beansprucht wird eine endlose Gasentladungskammer, die in einem Abschnitt zur Wechselspannungsanregung des in der Gasentladungskammer enthaltenen Gases von einem eine Primaerwicklung tragenden magnetisierbaren Kern aehnlich einer als Sekundaerwicklung wirkenden Windung umfasst wird und dadurch gekennzeichnet ist, dass zur Uebertragung einer Impulsfolge mit dem Tastverhaeltnis 0.5 und einer Frequenz von mximal 1 MHz auf die Primaerentwicklung ein Rechteckimpulsgenerator vorgesehen ist. Die endlose Gasentladungskammer wird in einem Gas-Ionen-Laser mit relativ grossem Querschnitt der vom aktiven, an der Lichtemission beteiligten Medium erfuellten Kammer verwendet. (GG)Original Title
Induktive Plasmaanregung
Primary Subject
Source
1 Dec 1977; 5 p; DE PATENT DOCUMENT 1639273/C/
Record Type
Patent
Country of publication
Reference NumberReference Number
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INIS IssueINIS Issue