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AbstractAbstract
[en] By means of ion beam atomizing or sputtering an integrally composed coating, the composition of which continuously changes from 100% of the substrate to 100% of the coating, can be surfaced on a substrate (e.g. molten quartz on plastic lenses). In order to do this in the facility there is directed a primary beam of accelerated noble gas ions on a target from the group of the following materials: SiO2, Al2O3, Corning Glass 7070, Corning Glass 7740 or borosilicate glass. The particles leaving the target are directed on the substrate by means of an acceleration potential of up to 10 KV. There may, however, be coated also metal layers (Ni, Co) on a mylar film resulting in a semireflecting metal film. (RW)
[de]
Mittels der Ionenstrahlzerstaeubung- oder sputtern kann eine integrale zusammengesetzte Ueberzugsschicht, bei der die Zusammensetzung kontinuierlich von 100% des Substrats auf 100% der Ueberzugsschicht uebergeht, auf ein Substrat aufgebracht werden (z.B. geschmolzenes Quarz auf Plastikbrillenglaeser). In der Anlage wird hierzu ein Primaerstrahl aus beschleunigten Edelgasionen auf ein Target aus der Gruppe folgender Werkstoffe gerichtet: SiO2, Al2O3, Corning-Glas 7070, Corning-Glas 7740 oder Borsilikatglas. Die aus dem Target austretenden Partikel lenkt eine Beschleunigungsspannung von bis zu 10keV auf das Substrat. Es koennen jedoch auch Metallschichten (Ni, Co) auf einen Mylar-Film als halbreflektierende Metallfilme aufgebracht werden. (RW)Original Title
Ionenstrahl-Sputter-Implantierverfahren
Source
7 Dec 1978; 30 p; DE PATENT DOCUMENT 2824818/A/
Record Type
Patent
Country of publication
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