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Smith, H.I.; Spears, D.L.; Stern, E.
Massachusetts Inst. of Tech., Cambridge (USA); Deutsches Patentamt, Muenchen (Germany, F.R.)1978
Massachusetts Inst. of Tech., Cambridge (USA); Deutsches Patentamt, Muenchen (Germany, F.R.)1978
AbstractAbstract
[en] The equipment is to improve the pattern multiplication technique for producing e.g. microminiature current rings. It uses soft X-radiation (2 to 20 A) from an Al anticathode. The mask consists of a Si layer penetrable by X-rays and an opaque pattern layer of Au to limit the mask pattern. Polymethyl metacrylate is suitable as sensitive layer for X-radiation, which is coated on a carrier. The sensitive layer can be prepared from methyl isobutyl ketone and isopropyl alcohol. (ORU/ORU)
[de]
Die Vorrichtung dient der Verbesserung der Muster-Vervielfaeltigungstechnik zur Herstellung von z.B. Mikrominiaturstromkreisen. Sie verwendet weiche Roentgenstrahlung (2 bis 20A) aus einer Antikathode aus Al. Die Maske besteht aus einer fuer die Roentgenstrahlung durchlaessigen Schicht aus Si und einer undurchlaessigen Musterschicht aus Au zur Begrenzung des Maskenmusters. Als fuer die Roentgenstrahlung empfindliche Schicht eignet sich Polymethylmetacrylat, das auf einem Traeger aufgebracht ist. Die empfindliche Schicht kann aus Methylisobutylketon und Isopropylalkohol hergestellt werden. (ORU)Original Title
Vorrichtung zur Herstellung einer maskierenden Schicht auf einem Traeger mit Hilfe von weichen Roentgenstrahlen
Primary Subject
Source
2 Nov 1978; 6 p; DE PATENT DOCUMENT 2302116/C/
Record Type
Patent
Country of publication
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