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AbstractAbstract
[en] The observation and the determination of the density profiles of the plasma dense produced in silicium micro-spherical target irradiated by neodymium laser pulses of 1060 nm-with an intensity of 1015 W/cm2 are presented. Holographic micro-interferometry and micro-interferometry with a prism of Wollaston are used. The experimental diagram are detailed. The probing pulse is frequency doubled to 633 nm in order to reduce refractive errors due to steps density gradient. The interferograms have been recorded on films. Abel inversion method is used to analyse the interference patterns, and determine the density profiles. The graphs resultant are presented. At last, the refraction effects are discussed
[fr]
On presente l'observation et la determination des profils de densites electroniques des plasmas denses crees sur des micro-spheres, en silicium, par un faisceau laser a neodyme de longueur d'onde 1060 nm, ayant des impulsions de 100 ps dont l'intensite est de l'ordre de 1015 W/cm2. Les techniques utilisees sont l'interferometrie-holographique et l'interferometrie par prisme de Wollaston. Les montages experimentaux sont presentes. Le faisceau sonde utilise a une longueur d'onde de 633 nm choisi pour minimiser l'effet de la refraction du aux gradients de densites. Les interferogrammes obtenus sont enregistres sur des films. Pour analyser les diagrammes, nous avons fait recours a l'inversion d'Abel pour remonter a la densite electronique dont on presente les profils. L'effet de la refraction sera encore discuteOriginal Title
Mesure de densites electroniques par interferometrie dans des plasmas crees par interaction d'un faisceau laser au neodyme avec des cibles spheriques
Primary Subject
Source
Jul 1982; 169 p; These (3e Cycle).
Record Type
Miscellaneous
Literature Type
Thesis/Dissertation
Report Number
Country of publication
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