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[en] One of the key problems in the developement of high power diodes is the formation of a suitable anode plasma source layer. To provide an ion current density of up to 10 kA/cm2 for a pulse duration of 50 ns a minimum of 3x1015 ions/cm2 is needed. This layer should uniformly cover an area of more than 100 cm2 and smoothly conform to the desired anode shape without expanding far into the acceleration gap. A new anode plasma source (Ti-Pd film as hydrogen storage) for protons meeting these requirements was developed and investigated. (orig./HP)
[de]
Eines der Schluesselprobleme in der Entwicklung von Hochleistungsionendioden ist die Erzeugung einer geeigneten Anodenplasmaschicht als Ionenquelle. Fuer einen Stromimpuls von bis zu 10 kA/cm2 und einer Impulsdauer von 50 ns muessen mindestens 3x1015 Ionen/cm2 bereitgestellt werden. Die Plasmaschicht sollte eine Flaeche von 100 cm2 gleichmaessig bedecken und sich an die Form der Anode schmiegen, ohne weit in den Beschleunigungsspalt zu expandieren. Es wurde eine Anodenplasmaquelle (Ti-Pd-Film als Wasserstoffspeicher) fuer Protonen, die diese Anforderungen erfuellt, entwickelt und untersucht. (orig./HP)Source
Jan 1994; 133 p; ISSN 0303-4003; 
; Diss.
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