Filters
Results 1 - 1 of 1
Results 1 - 1 of 1.
Search took: 0.018 seconds
[en] The joint adsorption of silicon atoms and the 6 group elements on the surface (1010)Re are studied through the Auger electron spectroscopy of high resolution. It is shown that by applying the silicon on the surface oxide or surface sulfide part of the applied Si atoms reacts with chalcogens atoms and is desorbed in form of the SiO or SiS molecules, whereas the remaining part of silicon occupies the vacant adsorption positions, forming thereby the surface silicide (SS). The silicon atoms, fixed in the SS, loose their reactive capacity and coexist on the surface along with the chalcogens atoms
[ru]
С помощью Оже-электронной спектроскопии высокого разрешения изучена совместная адсорбция атомов кремния и элементов 6 группы на поверхности (1010)Re. Показано, что при нанесении кремния на поверхностный оксид или поверхностный сульфид часть напыленных атомов Si вступает в реакцию с атомами халькогенов и десорбируется в виде молекул SiO или SiS, в то время как оставшаяся часть кремния занимает освобождающиеся адсорбционные места, формируя поверхностный силицид (ПС). Встроившиеся в ПС атомы кремния теряют реакционную способность и сосуществуют на поверхности совместно с адсорбированными атомами халькогеновJournal
