In der Oberflächenphysik ist die präzise Steuerung und ausführliche Charakterisierung von ultradünnen Schichtwachstum von Übergangsmetalloxiden (TMO) auf Metallsubstraten von zentraler Bedeutung für die Erhebung von verlässlichen empirischen Daten, welche wiederum zur Optimierung und Erweiterung von den bestehenden theoretischen Modellen und Ansätzen, wie zum Beispiel Dichtefunktionaltheorie (DFT), verwendet werden können. Inhalt dieser Arbeit ist die Untersuchung des kontrollierten Wachstums von TMOs mittels Rastertunnelmikroskopie in Verbindung mit weiteren Methoden der Oberflächenphysik. Zusätzlich wird ein neuartiger viel-versprechender experimenteller Ansatz vorgestellt mit dem Wachstum durch starke elektrische Felder effektiv beeinflusst und kontrolliert werden kann. Die Untersuchungen betreffen die TMO Systeme MnxOy und WOx auf der Ag(100) Oberfläche.Das (2x1)-MnO/Ag(100) System zeigt ein hoch anisotropisches Wachstum in Form von langen und schmalen Streifen, die dadurch ein komplexes Oberflächennetzwerk bilden. Der Wachstumsmechanismus dieses Systems wurden mittels DFT-Berechnungen erklärt. Die (WO3)3 Cluster aufgedampft bei Raumtemperatur bilden verzweigte fraktale Inseln. Beim Aufdampfen über einer Schwellentemperatur von 700 K entsteht eine vollständige intakte 2D WOx Benetzungsschicht auf der Oberfläche. Auf der Oberseite der Schicht konnte beginnendes 3D Wachstum in Form von scharfen Nadeln beobachtet werden. Da das Ausmaß der Schicht den Nanometerbereich übersteigt (bis zu 1µm) wurde zusätzlich die niederenergetische Elektronenmikroskopie zur Untersuchung der Wachstum-Kinetik angewendet. Zudem wurden an beiden Systemen Versuche mit starken elektrischen Feldern (1-2 V/nm) in einem eigens dafür konstruierten UHV Apparat durchgeführt. Beachtliche feldinduzierte Oberflächenmodifikationen, die mit STM und Auger Elektronen Spektroskopie charakterisiert wurden, konnten in allen Versuchen beobachtet werden. (author)