Le travail effectue dans le cadre de cette these porte sur l'etude des plasmas magnetises et nonmagnetises produits par des structures coaxiales qui font office a la fois de propagateur d'onde et de coupleur a impedance adaptee au plasma, mais aussi de sonde d'investigation et de caracterisation de la decharge. Une attention particuliere est accordee a l'efficacite de couplage entre l'onde electromagnetique et la decharge et de production d'especes, et ce pour differentes conditions operatoires: frequence d'excitation (352 et 2450 MHz), configuration magnetique, geometrie de l'applicateur. L'analyse quantitative et comparative presentee dans ce travail s'appuie aussi bien sur une approche experimentale que theorique. Les modeles analytiques developpes et la simulation electromagnetique realisee permettent d'extraire a partir des mesures experimentales, d'une part l'impedance du plasma decorrelee de celle de la structure de propagation de l'onde, et d'autre part, l'absorption globale et locale de l'onde. Du point de vue experimental, des techniques et methodes appropriees ont donc ete developpees et mises en oeuvre comme, par exemple la methode de changement de plan d'impedance, ou encore l'auto-interferometrie. L'etude parametrique, menee sur un domaine de pression etendu sur plusieurs decades (10^-4 - 10 Torr) et pour une gamme de puissances allant de un a plusieurs centaines de watts, a permis une investigation minutieuse du type de couplage (capacitif, inductif, resistif) qui est fortement dependant des caracteristiques de la decharge et donc des parametres operatoires. Leur mise en correlation, associee a l'analyse des modes de propagation dans un plasma magnetise, a permis de localiser avec plus de precision les zones de couplage et d'identifier les principaux mecanismes d'absorption de l'onde mis en jeu. Les principaux resultats obtenus confirment une meilleure efficacite de production d'especes chargees a une frequence plus elevee (2450 MHz), et la presence d'une population d'electrons chauds plus consequente ainsi qu'une extension spatiale du plasma lorsque la frequence est plus faible (352 MHz). Comme la technologie 352 MHz a etat solide est plus avantageuse du point de vue du cout des composants, comparee a 2450 MHz, elle pourrait s'averer interessante pour des procedes visant la production d'especes chimiquement actives. Toutefois, le couplage, peu efficace, de type capacitif induit par la diminution de la frequence, requiert une attention accrue au niveau de la configuration du coupleur. Pour le developpement en amont des coupleurs, les resultats issus de ce travail de these et les modeles analytiques developpes devraient constituer un outil determinant dans la conception de sources plasma micro-onde performantes. (auteur)