Eine passive Schicht von mehreren tausend A auf einer polykristallinen Nickelelektrode wurde mit Hilfe der sekundaeren Ionenmassenspektrometrie (SIMS) durch Sputtering mit einem ⁴⁰Ar⁺-Primaerstrahl von 5,5 keV, 13 μA x cm^-2 untersucht. Konzentrationsprofile wurden durch Aufzeichnung der Intensitaeten der atomaren und molekularen Massenpeaks in Abhaengikeit von der Sputteringzeit (d.h. Tiefe) erzielt. Nickel war ueberall in der Schicht vorhanden, jedoch nicht als Element, da die relativen Intensitaeten der Ni⁺sub(n) (n = 1, 2, 3, 4)-Peaks, die Teile des Fingerprint-Spektrums darstellten von jenen des Fingerprintspektrums des elementaren Nickels abwichen. Diese Werte wurden schliesslich erreicht, was eine Durchloecherung der Schicht bedeutete und damit die Abschaetzung ihrer Dicke ermoeglichte. Die ⁵⁸Ni⁺-Abbildung bewies das Vorhandensein von mindestens zwei Formen von Nickel in der Schicht. Beide Formen hatten hoehere Ni⁺-Anteile als massives Ni. (orig./AK)