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AbstractAbstract
[en] In surface analysis ESCA is particularly suitable for qualitative and quantitative analysis, characterization of compounds, non-destructive in-depth analysis. ESCA ca therefore be used for the investigation of ion beam induced effects, such as selective sputtering, implantation of primary ions and surface atoms, changes in crystal structure, decomposition and formation of compounds. In the present paper the following questions will be discussed: 1) What happens during the bombardment of an oxide to metal interface. 2) Does a lower limit exist with respect to primary ion dose, current density, mass and energy for the production of ion beam induced effects. In both cases the possibility of, and time needed for, the reconstruction of the initial state seem to be important factors. (orig.)
[de]
Bei der Oberflaechenanalyse ist das ESCA-Verfahren besonders geeignet fuer die quantitative Analyse, die Charackterisierung von Verbindungen und die nichtzerstoerende Tiefenanalyse. Es kann daher zur Untersuchung von durch Ionenstrahlen induzierten Effekten wie selektives Sputtern, Implantierung von Primaerionen und Oberflaechenatomen, Veraenderungen der Kristallstruktur, Zersetzung und Bildung von Verbindungen verwendet werden. Die vorliegende Arbeit behandelt die folgenden Fragen: 1) Was geschieht beim Beschuss einer Oxid-Metall-Grenzflaeche. 2) Gibt es eine untere Grenze fuer Primaerionendosis, Stromdichte, Masse und Energie fuer die Produktion ionenstrahlinduzierter Effekte. In beiden Faellen scheinen die Moeglichkeit der Rekonstruktion des Ausgangszustands und die dafuer benoetigte Zeit wesentliche Faktoren zu sein. (orig.)Primary Subject
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Source
1977; 11 p; International conference on secondary ion mass spectroscopy (SIMS) and ion microprobes; Muenster, Germany, F.R; 19 - 23 Sep 1977; 6 figs.; 23. refs.
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Miscellaneous
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